電子束蒸鍍

簡要描述：電子束蒸鍍?yōu)橐环N物理氣相沉積（PVD）技術，其中電子束是由鎢絲所產生的，並受到電場和磁場的驅動而朝向蒸發(fā)材料，並將其材料由固態(tài)轉化為氣態(tài)以沉積在基板表面上。且該過程需在高真空環(huán)境中，以通過自由路徑的方式在基板表面上形成薄膜。

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更新時間：2024-07-10
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電子束

激光光刻系統(tǒng) 納米加工

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品牌	其他品牌	應用領域	環(huán)保,化工,電子/電池

電子束蒸鍍系統(tǒng)為一種物理氣相沉積（PVD）技術，其中電子束是由鎢絲所產生的，並受到電場和磁場的驅動而朝向蒸發(fā)材料，並將其材料由固態(tài)轉化為氣態(tài)以沉積在基板表面上。且該過程需在高真空環(huán)境中，以通過自由路徑的方式在基板表面上形成薄膜。

電子束蒸鍍比熱蒸發(fā)更具有優(yōu)勢。它能夠在非常高的溫度下熔化材料，如鎢、石墨...等等。結合石英震盪片的反饋信號，可輕鬆控制蒸發(fā)速率，以調節(jié)電子束電流並蒸發(fā)更多材料而不會破壞真空。因此，電子束蒸發(fā)用於薄膜製程領域，包括半導體、光學、太陽能電池板、玻璃和建築玻璃，因此它們具有所需的導電，反射，透射和電子等特性。