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超高真空電子束蒸鍍設備

簡要描述:超高真空電子束蒸鍍設備的特征為其真空壓力低于10-8至10-12 Torr,在化學物理和工程領域十分常見。超高真空環(huán)境對于科學研究非常重要,因為實驗通常要求,在整個實驗過程中,表面應保持無污染狀態(tài)和使用較低能量的電子和離子的實驗技術的使用,而不會受到氣相散射的過度干擾。

  • 產品型號:
  • 廠商性質:經(jīng)銷商
  • 更新時間:2024-07-10
  • 訪  問  量:997

詳細介紹

品牌其他品牌應用領域環(huán)保,化工,電子/電池

超高真空電子束蒸鍍設備介紹

超高真空環(huán)境的特徵為其真空壓力低於10-8至10-12 Torr,在化學物理和工程領域十分常見。超高真空環(huán)境對於科學研究非常重要,因為實驗通常要求,在整個實驗過程中,表面應保持無污染狀態(tài)和使用較低能量的電子和離子的實驗技術的使用,而不會受到氣相散射的過度干擾。在這樣超高真空環(huán)境下使用電子束蒸鍍,SYSKEY可以提供高品質的薄膜。

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針對超高真空和高溫加熱設計基板旋轉鍍膜機構,使用陶瓷培林旋轉,並在內部做水冷循環(huán)來保護機構以確保長時間運轉的穩(wěn)定性。

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超高真空電子束蒸鍍設備應用領域腔體
  • 光學材料研究(LED/Laser Diode)。

  • 光電元件。

  • 半導體元件。

  • 客製化的腔體尺寸取決於基板尺寸和其應用。

  • 腔體為使用金屬密封圈並可烘烤至150oC。

  • 腔體的極限真空度約為10-10Torr。

配置和優(yōu)點選件
  • 客製化的基板尺寸,最大直徑可達8吋晶圓。

  • 優(yōu)異的薄膜均勻度小於±3%。

  • 具有水冷坩堝的多組坩鍋旋轉電子束源(1/2/4/6坩堝)。

  • 自動鍍膜系統(tǒng)。

  • 具有順序操作或共沉積的多個電子束源。

  • 基板具有冷卻(液態(tài)氮溫度低至-70°C)或加熱(溫度最高800°C)等功能。

  • 可以與傳送腔、機械手臂和手套箱整合在一起。

  • 結合離子源、濺鍍槍、熱蒸發(fā)源、等離子清潔...。

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